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超高纯隔膜阀,ALD3 和 ALD6 系列

用于原子层沉积工艺的世伟洛克®超高纯隔膜阀(ALD3 和 ALD6 系列)

世伟洛克 ALD3 和 ALD6 系列隔膜阀用于半导体制造设备,以实现原子层沉积 (ALD) 处理所需的可控计量。它们具有超高循环寿命、快速驱动和高达 0.62 的流量系数。

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超高纯世伟洛克® ALD3 和世伟洛克® ALD6 隔膜阀旨在为半导体制造商提供可靠、快速的前驱体定量,用于在沉积腔室中逐层搭建微芯片。这些高性能超高纯阀门具有超高的循环寿命、高温下的完全浸入性以及超高纯应用的适用性。

ALD3 和 ALD6 阀门使用的隔膜由钴基超级合金材料组成,具有高强度和耐腐蚀性。其阀体采用 316L VIM-VAR 不锈钢,因此适用于超高纯应用。阀座由氟化高纯度 PFA 制成,具有广泛的化学相容性以及抗膨胀和抗污染能力。这些阀门可配备常闭和常开气动执行,并有多种配置可供选择,以满足不同的安装要求。

了解 ALD 阀门如何改进半导体制造

ALD3 和 ALD6 阀门规格

工作压力真空至 145 psig (10.0 bar)
爆破压力>3200 psig (220 bar)
执行压力50 至 90 psig(3.5 至 6.2 bar)
温度32° 至 392°F(0° 至 200°C)
流量系数 (Cv)0.27 或 0.62
阀体材料316L VIM-VAR 不锈钢
隔膜材料钴基超级合金
端接类型(尺寸):内螺纹 VCR® 面密封接头(1/4 in. 至 1/2 in.),外螺纹 VCR 面密封接头(1/4 in. 至 1/2 in.),模块化表面安装高流量 C 型密封(1.125 in. 至 1.5 in.)

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