世伟洛克® 原子层沉积 (ALD) 阀
世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有超高循环寿命、高速执行、流量、热浸没和超高洁净度，可在先进半导体制造应用中实现精确进料并尽可能地提高芯片产量。
索取 ALD 阀门信息Depuis le lancement par Swagelok de la technologie des vannes ALD, nous avons travaillé en étroite collaboration avec des clients du secteur des semi-conducteurs – fabricants de puces et fabricants d’outillage – pour créer des vannes ALD sophistiquées offrant les niveaux extrêmes de précision, de régularité et de propreté ainsi que la durée de vie nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur ce marché. Les vannes ALD Swagelok® peuvent accroître les rendements de la production de puces semi-conductrices et surmonter les difficultés souvent associées au procédé de dépôt par couche atomique.
Les caractéristiques de nos vannes ALD très haute pureté sont les suivantes :
- Durée de vie très longue et actionnement ultra-rapide
- Cv de 0,27 à 1,7
- Utilisation à des températures allant jusqu’à 200°C (392°F) pour certains modèles
- Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option
- Propreté adaptée aux applications de très haute pureté
- Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords VCR®
Atomic Layer Deposition (ALD) Valves Categories
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD3 and ALD6 Series
ALD3 and ALD6 diaphragm valves offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and strong performance in atomic layer deposition applications.
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7A Series
The Swagelok ALD7A ultrahigh-purity diaphragm valve offers the precision and consistency needed to maximize chip yields in semiconductor manufacturing applications.
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7C Series
Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.
Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series
Advance atomic layer deposition technology with flow rates 2–3x higher than other ALD valves with the ALD20 ultrahigh-purity valve.
Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.
原子层沉积 (ALD) 隔膜阀，高速执行下的超高循环寿命 ，Cv 0.27 到 0.62，耐热执行器, 耐温高达 200°C（392°F），电子执行器位置传感选购件，合采用 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用场合，VCR®, 卡套管对焊和模块化表面安装端接
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
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