Swagelok®ALD（原子層蒸着）用バルブ
Swagelok超高純度用ALD（原子層蒸着）用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、最先端の半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの供給を実現し、デバイスの歩留まりを最大化します。
ALD用バルブについて問い合わせるALD用バルブ を世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体製造装置メーカーやファブと密接に協力して高度なALD用バルブ・テクノロジーを提供し、市場において急速に進む技術革新に対応する上で欠かせない非常に高いレベルの精度、一貫性、クレンリネス（清浄度）、優れたサイクル・ライフの実現に努めてきました。Swagelok ALD用バルブは、デバイスの生産効率の向上をサポートし、ALDプロセスにおける課題を克服します。
超高純度用ALD用バルブの特徴：
- サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
- 流量係数（Cv値）：0.27～1.7
- 最高200°Cまでの高温環境に対応（高温モデルのアクチュエーターの場合）
- 電気式インジケーターまたは光学式ポジション・センサー・オプション
- 超高純度アプリケーションに適したクレンリネス（清浄度）
- 集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR®面シール継手エンド・コネクション
Atomic Layer Deposition (ALD) Valves Categories
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD3 and ALD6 Series
ALD3 and ALD6 diaphragm valves offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and strong performance in atomic layer deposition applications.
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7 Series
The Swagelok® ALD7 ultrahigh-purity diaphragm valve offers the precision and consistency needed to maximize chip yields in semiconductor manufacturing applications.
Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series
Advance atomic layer deposition technology with flow rates 2–3x higher than other ALD valves with the ALD20 ultrahigh-purity valve.
ALD（原子層蒸着）用バルブのカタログ
構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。
ALD3, ALD6, and ALD7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
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