世伟洛克® 阀组
世伟洛克二阀组、三阀组、四阀组或五阀阀组在工厂制造并得到测试，为关键仪表应用提供可靠的解决方案。可提供直接安装、远程安装或模块化系统配置，包括低逸散性排放和符合 NACE 标准的合金型号。
查看所有阀组世伟洛克阀组通过将多个阀门置于一个阀体内，尽可能地减少了潜在的泄漏点。这种阀组专为传统和紧凑型直列式阀体设计中的静压、液位和差压应用而设计，适用于仪表、直接安装、远程安装和模块系统。液流选择器系统可在单个紧凑模块中实现双关断和排放 (DBB) 操作。其型号包括：
- V、VB 和 VL 系列两阀、三阀和五阀仪表阀组
- VE 系列两阀、三阀和五阀直接安装阀组
- 两阀远程安装阀组
- Mod 85 模块化仪表系统
- 符合 API 624 标准低排放 (Low-E) 认证的直接安装和远程安装阀组以及 Mod 85 系统
- 适用于工艺分析仪应用的 SSV 系列液流选择器系统（观看视频了解其工作原理）
世伟洛克阀组紧凑的装配设计可减小尺寸和重量，便于安装和维护。阀组的阀体材料材料（如不锈钢、碳钢和双相不锈钢）和填料材料（如可实现系统通用性的 PTFE 和可扩展温度额定值的 Grafoil®）可供选择。
是否对阀组有疑问？
Manifolds Categories
Five-Valve Manifolds, Instrument
Five-valve manifolds feature stainless steel needle valves for precise pressure control. Available in traditional and compact designs.
Spare Parts and Accessories
Ensure secure installation and functionality with stainless steel mounting bracket kits for V Series manifolds.
Stream Selectors
Discover our compact stream selector system for process analyzer applications where superior corrosion resistance is needed.
Three-Valve Manifolds, Instrument
Three-valve manifolds feature stainless steel needle valves for precise pressure control. Available in traditional and compact designs.
Two-Valve Manifolds, Instrument
Two-valve manifolds feature stainless steel needle valves for precise pressure control. Available in traditional and compact designs.
阀组目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及配件。
V, VB, and VL series 2-, 3-, and 5-valve instrument manifolds; VE series 2-, 3-, and 5-valve direct-mount manifolds; 2-valve remote-mount manifolds; Mod 85 modular instrumentation systems
The stream selector system is a modular assembly designed for process analyzer systems. Find technical and ordering information as well as details on atmospheric-reference and high-purge options.
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
如何为您的工业流体系统选择合适的阀门
了解如何应用实用的 STAMPED 方法来选择适合您的工业流体或取样系统设计应用的阀门。
使用低泄漏阀门尽可能地降低逸散性泄漏的成本
逸散性泄漏问题在化工和炼油行业中日益受到关注。通过认证的低泄漏(Low-E) 阀可以保障您的设施和基本要求。在这篇文章中了解何为低泄漏、如何对其进行测试以及它们是如何帮助您的。
如何使用截止阀隔离工业流体系统
在维护之前，隔离工业流体系统管路对于工厂的安全至关重要。隔离流体系统管路的安全方法之一是安装两个截止阀。了解如何为您的系统设计正确的配置。
一种全新的阀门。该阀能改变半导体制造的三大原因
了解原子层沉积 (ALD) 阀门技术的前沿创新如何改变高科技半导体制造商的游戏规则。
