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校准和切换模块是高度可配置的预设计子系统，采用模块化平台组件构建。它们在分析前对样品进行最终调节，并允许用户使用世伟洛克液流选择系统选择多达 10 个样品和两个校准流。 世伟洛克校准和切换模块 ( CSM ) 在多个工艺样品和条件之间提供离散切换，并选择工艺流进行分析。通过确保样品以适当的压力、温度、流量和过滤程度进入分析仪内，CSM 对样品进行预处理。整体式流动回路设计保证所有液流被送到分析仪的时间都是一致的，并消除了死区或流间污染机会。 CSM 建立在世伟洛克模块化平台组件平台上，采用世伟洛克液流选择阀 (SSV)，允许用户选择所需的配置。标准型号可接受 10 种工艺流体和两种校准流体（液...

世伟洛克直通型单向阀含有一系列可调节和固定开启压力，可控制一般用途和高纯度应用中的回流。过流阀无需旁路机构，从而增强了系统的完整性和安全性。 单向阀 | 专为单向流动的流体而设计 过流阀 | 阻止下游过流时流体的释放 世伟洛克 ® 单向阀的设计旨在使流体仅能单向流动。我们的单向阀有多种设计类型，包括 提升阀芯式 、 升降式 和 全焊接式 型号，适用于一般用途或 高纯 的应用场景，包括 中压或高压 的工况。 世伟洛克单向阀有多种端接和密封材料可供选择，使用户能够找到与其系统和工艺介质相容的易于集成的解决方案。某些世伟洛克单向阀采用全焊接设计，以便在高纯应用中可靠地容纳系统流体，还有些单向...

紧凑压力表阀重量轻、占用空间小，可实现快速、方便的压力表安装和维护。 世伟洛克紧凑压力表阀设计用于提供压力表隔离和压力表排放。它们由一个不锈钢 世伟洛克 1 系列针阀 （无面板螺母）和一个整体式不锈钢 世伟洛克吹扫阀 组成。 世伟洛克紧凑压力表阀设计用于与带有卡套管转换端接的 世伟洛克压力表 配套使用，使得表盘易于对准，减少压力表安装时间和成本。世伟洛克卡套管接头端接还可减少阀门的安装时间和成本，同时提供稳固的卡套管抓紧和抗振性。整体式吹扫阀消除了螺纹连接，减少了潜在的泄漏点。为了保护操作人员安全并防止意外拆卸，排放阀的阀盖被永久地压接在阀体上，316 不锈钢结构提供了耐久性和耐腐蚀性。 规格...

世伟洛克 ® IPT 系列锥面和螺纹接头由各种合金制成，可在不同的最终使用环境和中高以及高达 60000 psig (4134 bar) 的高压应用中提供可靠的性能。 一直以来，锥面和螺纹 (C&T) 连接在提供可靠的中高压性能方面深受信赖。世伟洛克 IPT 系列锥面和螺纹接头采用 316 不锈钢、625 合金和 2507 合金材料制成，尺寸从 1/4 in. 到 1 1/2 in. 不等。使用温度最高可达 700°F (371°C)。 可提供符合 NACE MR0175/ISO 15156 标准的世伟洛克 IPT 系列锥面和螺纹接头以及抗振动连接组件。检漏孔是...

世伟洛克隔膜密封阀通过尽可能地减少截流区，并利用完全可清扫流道便于进行吹扫操作，在实现有效切断流体的同时提高了系统效率。此类阀门具有较长的循环寿命，并有多种尺寸、材料和配置可供选择，以满足高纯和超高纯 (UHP) 应用的系统要求。 世伟洛克隔膜密封阀有多种尺寸、材料和配置可供选择，以满足高纯和超高纯应用的需求。其流量系数范围为 0.20 至 13。其完全可清扫流道和耐腐蚀结构使其成为对清洁度要求很高的应用的理想选择。用户可以选择手动、气动和具有锁定机构的选购件。 世伟洛克隔膜密封阀可用于原子层沉积 (ALD)、高流量模块化气体系统、热浸没应用以及需要含氟聚合物组件结构的超高纯应用场合。 用于 ...

世伟洛克 ALD20 超高纯阀门能提供高流量，是需要低蒸汽压前驱体的原子层沉积工艺的理想选择。 高流量世伟洛克 ® ALD20 超高纯阀门具有世伟洛克 ® ALD 阀门应有的可靠性和性能，同时还具有以前无法实现的温度稳定性和流量可能性。它使制造商能够尝试不同的工艺和低蒸汽压化学成分，以便在不显著改变工艺的情况下实现开发先进技术所需的均匀气体沉积。 世伟洛克 ALD20 阀门可以： 在与现有 ALD 阀相同的占用空间 (1.5 in.) 中提供 1.2 C v 的流量，从而在无需重新装备的情况下提高性能 以稍大 (1.75 in.) 的标准变体提供更大的 1.7 C v &mda...

世伟洛克 ALD3 和 ALD6 系列隔膜阀用于半导体制造设备，以实现原子层沉积 (ALD) 处理所需的可控计量。它们具有超高循环寿命、快速驱动和高达 0.62 的流量系数。 超高纯世伟洛克 ® ALD3 和世伟洛克 ® ALD6 隔膜阀旨在为 半导体制造商 提供可靠、快速的前驱体定量，用于在沉积腔室中逐层搭建微芯片。这些高性能超高纯阀门具有超高的循环寿命、高温下的完全浸入性以及超高纯应用的适用性。 ALD3 和 ALD6 阀门使用的隔膜由钴基超级合金材料组成，具有高强度和耐腐蚀性。其阀体采用 316L VIM-VAR 不锈钢，因此适用于超高纯应用。阀座由氟化高纯度 PFA 制...

世伟洛克 ALD7 超高纯阀提供了在新的或已有的半导体制造设备中，帮助尽可能地提高芯片产量所必需的流量一致性和流通能力、执行机构速度、温度等级和洁净度。 用于原子层沉积 (ALD) 处理的世伟洛克 ® ALD7 超高纯隔膜阀通过实现流量一致性和流通能力、执行速度以及克服生产工艺限制所必需的高温性能，使 半导体工具制造商 和芯片制造厂能够提高可行芯片良率并增强盈利能力。它能在超高的循环寿命内，在阀门与阀门、进料与进料、腔室与腔室之间提供一致的性能。 世伟洛克 ALD7 阀门： 即使在要求苛刻的应用中，也能在数百万次循环过程中提供快速、精确的进料，并具有响应时间低至 5 ms 的增强型执行...

世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有超高循环寿命、高速执行、流量、热浸没和超高洁净度，可在先进半导体制造应用中实现精确进料并尽可能地提高芯片产量。 ALD 阀门 问世以来，我们一直与半导体工具 OEM 和晶圆厂密切合作，提供的先进 ALD 阀门技术具有超高的精度、一致性、洁净度和高循环寿命，是紧跟市场快速创新步伐所必需的。世伟洛克 ® ALD 阀门可支持芯片生产效率的提高，并克服 ALD 工艺通常面临的挑战。 我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点： 快速动作下的超高循环寿命 C v 范围从 0.27 至 1.7 指定型号的承温能力高达 392°F (200°C)...

世伟洛克氨取样器可尽可能地减少操作员接触液体和汽化氨的机会，从而使无水氨取样更加安全。它还将一致性引入取样操作，显著加快取样过程，无需在设施内运输氨样本。 无水氨用于生产化肥、塑料、纺织品、石油等。为避免储罐内氨出现应力腐蚀开裂和产品质量问题，必须定期对产品取样以验证含水量为 0.2% 至 0.5%。 世伟洛克的闭环氨取样装置旨在消除传统氨样本采集方法固有的挑战。世伟洛克氨取样器具有以下特点： 封闭样本夹具： 我们的氨取样器具有封闭的玻璃罩固定装置，可通过限制操作人员暴露和影响环境的过量排放来提高安全性。该设计无需大量操作人员 PPE。玻璃前端使操作人员能够直观地监控样品状况。此外，还提供单夹...