我们的高性能 ALD 阀是世伟洛克长期以来在半导体制造业中显示出迅速响应的技术领导力的一个重要例子。ALD 阀技术问世以来，世伟洛克与半导体行业的客户密切合作，了解他们的需求，然后打造出 ALD 阀，提供必要的、高水平的精度、一致性、清洁度和高循环寿命，以跟上市场的快速创新步伐。我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点：
- 快速动作下的超高循环寿命
- Cv 范围从 0.27 至 1.7
- 指定型号的耐热能力高达 392°F (200°C)
- 电子或光学执行机构位置传感选购件
- 凭借 316L VIM-VAR 不锈钢阀体而适合超高纯应用场合
- 模块化表面安装、卡套管对焊和 VCR® 端接
类别
原子层沉积 (ALD) 阀目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及配件。
隔膜阀：原子层沉积用ALD
原子层沉积 (ALD) 隔膜阀，高速执行下的超高循环寿命 ，Cv 0.27 到 0.62，耐热执行器, 耐温高达 200°C（392°F），电子执行器位置传感选购件，合采用 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用场合，VCR®, 卡套管对焊和模块化表面安装端接
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