Мембранные клапаны Swagelok® сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (серия ALD7)
Клапаны Swagelok серии ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают стабильный расход и пропускную способность, быструю отработку, температурные параметры и уровень чистоты, помогающие увеличить выпуск чипов при использовании новых или имеющихся инструментов для производства полупроводников.
Запросить информацию о клапанах ALD7Мембранный клапан Swagelok® серии ALD7 для атомно-слоевого осаждения (ALD) дает возможность производителям полупроводников и изготовителям микросхем увеличить выход годной продукции, повысить рентабельность, обеспечить постоянство рабочего процесса при высоких температурах, что необходимо для преодоления ряда технических ограничений. Клапаны обеспечивают стабильность характеристик всех клапанов, во всех камерах и в дозировании в течение сверхвысокого циклического срока службы.
Клапан ALD7 от Swagelok:
- Обеспечивает быстрое и точное дозирование в течение миллионов циклов для самых строгих требований, и отличается усовершенствованной технологией со временем отклика всего 5 мс
- Устойчив к воздействию агрессивных газов благодаря корпусу из запатентованной сверхчистой нержавеющей стали Swagelok 316L VIM-VAR
- Возможность нагрева до 200°C при сохранении максимальной рабочей температуры пневматического привода ниже 150°C
- Обеспечивает коэффициент расхода (Cv) до 0,7 (доступны версии с индивидуальной заводской настройкой, обеспечивающие коэффициент расхода 0,5–0,7 Cv)
- Размеры аналогичны стандартным ALD-клапанам Swagelok, при этом оснащен встроенным термоизолятором для максимального использования ограниченного пространства возле реакционной камеры
Клапаны ALD7, увеличенное изображение
Технические характеристики клапана ALD7
| Рабочее давление | От вакуума до 145 psig (10,0 бар ман) |
| Давление разрыва | > 3200 psig (220 бар ман) |
| Давление срабатывания | От 60 до 120 psig (от 4,1 до 8,27 бар ман) |
| Номинальная температура | Стандартный корпус клапана: от 32°F (0°C) до 392°F (200°C) |
| Коэффициент расхода | Стандартный коэффициент расхода 0,7 Cv (устанавливается в заводских условиях) |
| Материалы корпуса | Нерж. сталь 316L VIM-VAR |
| Материал мембраны | Специальный сплав на основе кобальта |
| Торцевые соединения | Тип: Фитинги VCR®, соединение под приварку встык, C-образное модульное уплотнение размером 1,5 дюйма с высоким расходом для монтажа на поверхность |
Есть вопросы о клапанах ALD?
Каталоги клапанов серии ALD7
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
Способы решения основных проблем, связанных с обработкой полупроводников методом атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE)
Для процесса обработки полупроводников методами атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE) характерны определенные проблемы и сложности. Узнайте, как правильный выбор технологических клапанов поможет вам справиться с ними.
Выберите подходящие клапаны для решения задач в области атомно-слоевого осаждения (ALD)Ресурсы Swagelok специально для вас
利用优化的合金提高半导体制造良率
了解半导体制造商如何通过为关键流体系统组件选择合适的金属材料，提高端到端制造良率并提高长期盈利能力。
问答：半导体制造的过去、现在与未来
了解半导体OEM设备商、微芯片制造商与流体系统解决方案提供商之间的协作如何使半导体市场在数十年来能够满足摩尔定律的要求以及未来的发展方向。
Fiber Optics Equipment Manufacturer Increases Efficiency with Customized Solutions
Since the 1980s, Rosendahl Nextrom has depended on Swagelok to move its business forward. Learn more about the solutions that allowed the company to outpace its competitors and remain an industry leader.
Reliable Fluid System Solutions for the Scientific Frontier
Learn why Finnish dilution refrigerator manufacturer Bluefors trusts Swagelok for fluid system components and solutions that help enable quantum computing, experimental physics, and more.