我们的高性能 ALD 阀是世伟洛克长期以来在半导体制造业中显示出迅速积极的技术领导力的一个重要例子。ALD 阀技术问世以来，世伟洛克与半导体行业的客户密切合作，了解他们的需求，然后打造出 ALD 阀，提供必要的、高水平的精度、一致性、清洁度和高循环寿命，以跟上市场的快速创新步伐。我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点：
- 快速开关下的超高循环寿命
- 流量系数从 0.27 至 1.7
- 使用耐热执行机构时，可在 392°F (200°C) 下完全浸入
- 适合于采用标准 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用
- 模块化表面安装、卡套管对焊和世伟洛克 VCR® 端接
- 电子或光学执行机构位置传感选购件
原子层沉积 (ALD) 阀目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及附件。
隔膜阀：原子层沉积用ALD
原子层沉积 (ALD) 隔膜阀，高速执行下的超高循环寿命 ，Cv 0.27 到 0.62，耐热执行器, 耐温高达 200°C（392°F），电子执行器位置传感选购件，合采用 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用场合，VCR®, 卡套管对焊和模块化表面安装端接
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
利用优化合金提高半导体良品率
了解半导体制造商如何通过为关键流体系统组件选择合适的金属材料，提高端到端良品率并提高长期盈利能力。
问答：半导体制造的过去、现在与未来
了解半导体OEM设备商、微芯片制造商与流体系统解决方案提供商之间的协作如何使半导体市场在数十年来能够满足摩尔定律的要求以及未来的发展方向。
光纤设备制造商利用定制解决方案提高效率
自 20 世纪 80 年代以来，Rosendahl Nextrom 便依靠世伟洛克来推动其业务的发展。了解有关使该公司超越其竞争对手并保持行业领先地位的解决方案的更多信息。
适合于科学前沿的可靠流体系统解决方案
了解为何芬兰稀释制冷机制造商 Bluefors 信赖世伟洛克提供的有助于实现量子计算、实验物理学等领域的流体系统组件和解决方案。