世伟洛克® 原子层沉积 (ALD) 阀
世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有超高循环寿命、高速执行、流量、热浸没和超高洁净度,可在先进半导体制造应用中实现精确进料并尽可能地提高芯片产量。
索取 ALD 阀门信息Seit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok zusammen mit Kunden aus der Halbleiterfertigung an neuen Lösungen, die mit den sich rasch ändernden Prozessanforderungen auf dem Markt Schritt halten können. Die fortschrittlichen ALD-Ventile überzeugen durch ein äußerst hohes Maß an Präzision, Konsistenz und Sauberkeit sowie eine lange Lebensdauer. ALD-Ventile von Swagelok® unterstützen effiziente Prozesse bei der Chipherstellung und helfen Ihnen, die mit der Atomlagenabscheidung verbundenen Herausforderungen zu meistern.
Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:
- Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
 - Cv-Bereich von 0,27 bis 1,7
 - Temperaturbeständig bis 200 °C (392 °F) bei bestimmten Modellen
 - Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
 - Für ultrahochreine Anwendungen geeignet
 - Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Verbindungen
 
原子层沉积 (ALD) 阀类别
ALD-Ventile—Kataloge
Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.
原子层沉积 (ALD) 隔膜阀,高速执行下的超高循环寿命 ,Cv 0.27 到 0.62,耐热执行器, 耐温高达 200°C(392°F),电子执行器位置传感选购件,合采用 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用场合,VCR®, 卡套管对焊和模块化表面安装端接
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Neue Elemente aus dem Periodensystem in der Halbleiterfertigung nutzenSwagelok-Ressourcen für Sie zusammengestellt
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Q&A: Entwicklungen und Trends in der Halbleiterherstellung
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