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世伟洛克 ALD20 超高纯阀对比其他原子层沉积 (ALD) 阀具有更高的流量，使用户能够在其 ALD 工艺中试验具有挑战性的低蒸汽压前导气体。 为未来赋能 ALD20 提供了客户对世伟洛克超高纯 ALD 阀所期望的可靠性和性能，同时还带来了先前无法实现的温度稳定性和流量可能性。这款阀门使制造商能够试验不同的工艺和低蒸汽压化学品，以实现当今和未来开发先进技术所需的均匀气体沉积。 更高的流量。尽可能少的占用空间。 新型 ALD20 超高纯阀专为突破原子层沉积阀技术的极限而设计，从而使流量达到使用现有 ALD 阀所能达到的两到三倍。该阀门使半导体芯片制造商不仅具有增加产量和提高效率的潜...

隔膜密封阀尽可能地减少了截流区，并通过完全可清扫流道优化吹扫，从而提高了系统效率，同时实现了有效的流量关断。多种尺寸、材料和配置（包括原子层沉积、热浸没型和无弹簧）可满足高纯和超高纯应用的系统要求。 隔膜密封阀 我们的隔膜密封阀具有多种尺寸、材料和配置，可满足流量系数从 0.20 至 13 以及工作压力高达 3500 psig (241 bar) 的高纯和超高纯 UHP) 应用的需求。 隔膜密封阀可有效关断您的系统流量，并拥有较长的循环寿命。世伟洛克的隔膜密封阀产品包括原子层沉积 (ALD) 隔膜密封阀、适合高流量、高性能和模块化气体系统的无弹簧隔膜密封阀、热浸没型无弹簧隔膜密封阀以及超...

世伟洛克热浸没型隔膜阀提供高速启动并为在高温工艺中获得优秀性能而设计。 DH 系列热浸没型隔膜阀是为那些需要将阀门完全封闭在高温、高纯环境中的应用而设计的，如原子层沉积 (ALD) 和前躯体输送应用。高纯级 PFA 阀座具有广泛的化学品相容性和优异的抗膨胀和抗污染能力。阀体中的完全可清扫流道，尽可能地减小了截留区，增强流动能力。 流量系数高达 0.60，有各种 1/4 和 3/8 in. 的端接，以及气动和手动型号 — 常闭式执行机构的阀门开启或关闭时间小于 5 ms — 可满足广泛的系统需求。该阀在 220°C (428°F) 的条件下设计为优秀性能。 规格 ...

ALD20 UHP 阀门为半导体生产提供了新的可能性 由于具有更大的流量、更高的热稳定性和极高的精度，先进的阀门使芯片制造商能够对新的前体进行实验。 俄亥俄州索伦市 — （2020 年 2 月 1 日） — 流体系统产品、组件和相关服务的领先解决方案提供商世伟洛克宣布发布一款适用于高流量应用的新型超高纯 (UHP) 阀门 ALD20。自将原子层沉积 (ALD) 阀门技术推向市场以来，世伟洛克一直与半导体工具制造商和芯片制造商合作以提供所需的性能，从而与快速变化的工艺要求保持同步。新型 ALD20 阀门是这种合作的最新成果，因此，具有远见卓识的工艺设计者可以灵活地对低蒸气压化学材料进行试验，...

一种全新的阀门。该阀可能改变半导体制造的三大原因。 Matt Ferraro 打入半导体市场绝非易事。为了在涉及昂贵的材料、腐蚀性气体以及极端温度的高度复杂工艺中保持非常高的精度，半导体晶片制造商备处于持续的压力之下。该行业容不下犯半点错误，尤其是考虑到保持竞争优势和跟上不断发展的技术需求的巨大压力。 半导体工具 OEM 面临着同样巨大的压力。他们持续致力于提高其工具效率并使其产品设计与竞争对手的产品设计具有差异化，从而使客户可以在不牺牲质量的前提下而在更短的时间内生产更多的产品。或许更重要的是，他们还必须不断展望未来，以寻求可使制造商在争相引进下一代芯片技术时能够优化其工艺和输入...

半导体制造的过去、现在与未来：与行业顾问卡尔怀特(Carl White)的互动问答 摩尔定律是英特尔联合创始人 戈登 E.摩尔(Gordon E. Moore) 于 1965 年首次提出的概念，他预测集成电路（或微芯片）上的晶体管数量每两年便要增加一倍，而计算成本却要降低高达一半，从而使计算能力呈指数增长。半导体行业一直在努力跟上这一范式，但是要在更小的空间中不断提供更高的处理能力却并非易事，尤其是当竞争对手均朝着相同的目标迈进并且消费者对先进技术的需求持续不变的时候。 很大程度上应归因于摩尔定律，“我感到一种渴望-对速度的渴望！”这句话更像是对半导体行业日常的描述，而不只是...

新款世伟洛克 ® ALD7 超高纯阀门使半导体制造商能够提高芯片产量 先进的隔膜阀提供了精确的进料、快速执行和上亿次生产循环的一致性能。 俄亥俄州索伦市（2022 年 8 月 2 日）— 流体系统产品、组件及相关服务的领先供应商世伟洛克日前宣布推出世伟洛克 ® ALD7 超高纯(UHP)隔膜阀 — 该产品能够为半导体制造商提供提高芯片产量必需的一致性和长使用寿命。与世伟洛克目前顶级的 ALD6 阀门相比，ALD7 提供了更好的流量一致性、流通能力和执行机构速度。它还提供了必要的高温下性能，使芯片制造商能够克服当前制造工艺的限制，满足需求。 ALD7 阀门可以被集成到新设备或原有设备中...

合适的阀门如何能够提高您 ALD 工艺的精度和一致性 制造先进的微芯片需要日益复杂和精确的工艺，并增加产量，这些挑战促使 半导体 制造商追求越来越严格的工艺控制。在原子层沉积 (ALD) 等生产工艺中实现更小的性能差异，对于优化生产芯片的产量至关重要。 化学进料和输送系统的精度是优化ALD 工艺生产的一个关键因素。而一个精心设计的阀门控制系统可以提供帮助。我们将探讨其中的原因，首先是半导体科学家在该技术不断发展的关键时刻遇到并克服的一个重要难题。 探索 ALD 技术 半导体行业简史 半导体行业于 20 世纪 60 年代在硅谷起步，但到了 20 世纪 90 年代末，科学界预计摩...