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世伟洛克 ALD20 超高纯阀对比其他原子层沉积 (ALD) 阀具有更高的流量，使用户能够在其 ALD 工艺中试验具有挑战性的低蒸汽压前导气体。 为未来赋能 ALD20 提供了客户对世伟洛克超高纯 ALD 阀所期望的可靠性和性能，同时还带来了先前无法实现的温度稳定性和流量可能性。这款阀门使制造商能够试验不同的工艺和低蒸汽压化学品，以实现当今和未来开发先进技术所需的均匀气体沉积。 更高的流量。尽可能少的占用空间。 新型 ALD20 超高纯阀专为突破原子层沉积阀技术的极限而设计，从而使流量达到使用现有 ALD 阀所能达到的两到三倍。该阀门使半导体芯片制造商不仅具有增加产量和提高效率的潜...

隔膜密封阀尽可能地减少了截流区，并通过完全可清扫流道优化吹扫，从而提高了系统效率，同时实现了有效的流量关断。多种尺寸、材料和配置（包括原子层沉积、热浸没型和无弹簧）可满足高纯和超高纯应用的系统要求。 隔膜密封阀 我们的隔膜密封阀具有多种尺寸、材料和配置，可满足流量系数从 0.20 至 13 以及工作压力高达 3500 psig (241 bar) 的高纯和超高纯 UHP) 应用的需求。 隔膜密封阀可有效关断您的系统流量，并拥有较长的循环寿命。世伟洛克的隔膜密封阀产品包括原子层沉积 (ALD) 隔膜密封阀、适合高流量、高性能和模块化气体系统的无弹簧隔膜密封阀、热浸没型无弹簧隔膜密封阀以及超...

世伟洛克热浸没型隔膜阀提供高速启动并为在高温工艺中获得优秀性能而设计。 DH 系列热浸没型隔膜阀是为那些需要将阀门完全封闭在高温、高纯环境中的应用而设计的，如原子层沉积 (ALD) 和前躯体输送应用。高纯级 PFA 阀座具有广泛的化学品相容性和优异的抗膨胀和抗污染能力。阀体中的完全可清扫流道，尽可能地减小了截留区，增强流动能力。 流量系数高达 0.60，有各种 1/4 和 3/8 in. 的端接，以及气动和手动型号 — 常闭式执行机构的阀门开启或关闭时间小于 5 ms — 可满足广泛的系统需求。该阀在 220°C (428°F) 的条件下设计为优秀性能。 规格 ...