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这款单向阀专为加氢站应用而设计，可提供单向流动和高度可靠的小分子气体切断。 尽管用途不受限制，但世伟洛克 ® 氢气 FK 单向阀可满足加氢站应用的高要求，为加氢站运营商提供可靠的运行和更长的正常运行时间。获得专利的阀座设计和弹簧与流动路径隔离，尽可能地减少损坏并延长使用寿命。此外，当压差降到开启压力以下时，单向阀可防止逆向流动。 规格 阀体材料 316/316L 双认证材料，镍含量至少为 12% 端接 9/16 in.、1/2 in. 和 3/4 in. 世伟洛克 ® FK 系列中压卡套管接头 工作压力 最高 1050 bar (15 229 psig) 温度范围 &ndash...

这些阀门采用动负载填料系统和紧凑型设计，可确保在压力高达 6000 psig 和温度高达 600°F 的条件下实现优良性能。 可提供以下规格的阀门： 1/8 和 3/4 in.（3 至 18 mm） –65°F (–53°C) 至 600°F (315°C) 316 不锈钢、黄铜、400 合金 390 psig (26 bar) 至 6000 psig (413 bar) 这些阀门采用动负载填料系统和紧凑型设计，可确保在压力高达 6000 psig 和温度高达 600°F 的条件下实现优良性能。

世伟洛克 ® IPT 系列锥面和螺纹接头由各种合金制成，可在不同的最终使用环境和中高以及高达 60000 psig (4134 bar) 的高压应用中提供可靠的性能。 一直以来，锥面和螺纹 (C&T) 连接在提供可靠的中高压性能方面深受信赖。世伟洛克 IPT 系列锥面和螺纹接头采用 316 不锈钢、625 合金和 2507 合金材料制成，尺寸从 1/4 in. 到 1 1/2 in. 不等。使用温度最高可达 700°F (371°C)。 可提供符合 NACE MR0175/ISO 15156 标准的世伟洛克 IPT 系列锥面和螺纹接头以及抗振动连接组件。检漏孔是...

世伟洛克绝缘接头可隔离和保护监测仪器不受电流的影响，同时仍允许流体充分流动、保持仪器精度并降低仪器更换成本。 世伟洛克绝缘接头将电气绝缘和流体密封这两个主要功能分开，从而保护仪器。模制热塑性绝缘材料具有优异的电气、化学和抗紫外线性能以及低吸水率，可在各种工作和气候条件下保持绝缘强度和完整性。 绝缘接头通常安装在天然气管道监测站之前的引压管线上，可在允许流体完全流过的同时中断阴极电流。可检测 世伟洛克 ® 卡套管接头 或锥形管螺纹端接 (NPT/BSP) 可直接连接到卡套管或公称管系统，从而减少了安装时间。 是否对绝缘接头有疑问？ 联系当地专家 了解世伟洛克绝缘接头在仪表收到电流影响时仍...

世伟洛克 ALD20 超高纯阀门能提供高流量，是需要低蒸汽压前驱体的原子层沉积工艺的理想选择。 高流量世伟洛克 ® ALD20 超高纯阀门具有世伟洛克 ® ALD 阀门应有的可靠性和性能，同时还具有以前无法实现的温度稳定性和流量可能性。它使制造商能够尝试不同的工艺和低蒸汽压化学成分，以便在不显著改变工艺的情况下实现开发先进技术所需的均匀气体沉积。 世伟洛克 ALD20 阀门可以： 在与现有 ALD 阀相同的占用空间 (1.5 in.) 中提供 1.2 C v 的流量，从而在无需重新装备的情况下提高性能 以稍大 (1.75 in.) 的标准变体提供更大的 1.7 C v &mda...

世伟洛克 ALD3 和 ALD6 系列隔膜阀用于半导体制造设备，以实现原子层沉积 (ALD) 处理所需的可控计量。它们具有超高循环寿命、快速驱动和高达 0.62 的流量系数。 超高纯世伟洛克 ® ALD3 和世伟洛克 ® ALD6 隔膜阀旨在为 半导体制造商 提供可靠、快速的前驱体定量，用于在沉积腔室中逐层搭建微芯片。这些高性能超高纯阀门具有超高的循环寿命、高温下的完全浸入性以及超高纯应用的适用性。 ALD3 和 ALD6 阀门使用的隔膜由钴基超级合金材料组成，具有高强度和耐腐蚀性。其阀体采用 316L VIM-VAR 不锈钢，因此适用于超高纯应用。阀座由氟化高纯度 PFA 制...

世伟洛克 ALD7 超高纯阀提供了在新的或已有的半导体制造设备中，帮助尽可能地提高芯片产量所必需的流量一致性和流通能力、执行机构速度、温度等级和洁净度。 用于原子层沉积 (ALD) 处理的世伟洛克 ® ALD7 超高纯隔膜阀通过实现流量一致性和流通能力、执行速度以及克服生产工艺限制所必需的高温性能，使 半导体工具制造商 和芯片制造厂能够提高可行芯片良率并增强盈利能力。它能在超高的循环寿命内，在阀门与阀门、进料与进料、腔室与腔室之间提供一致的性能。 世伟洛克 ALD7 阀门： 即使在要求苛刻的应用中，也能在数百万次循环过程中提供快速、精确的进料，并具有响应时间低至 5 ms 的增强型执行...

世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有超高循环寿命、高速执行、流量、热浸没和超高洁净度，可在先进半导体制造应用中实现精确进料并尽可能地提高芯片产量。 ALD 阀门 问世以来，我们一直与半导体工具 OEM 和晶圆厂密切合作，提供的先进 ALD 阀门技术具有超高的精度、一致性、洁净度和高循环寿命，是紧跟市场快速创新步伐所必需的。世伟洛克 ® ALD 阀门可支持芯片生产效率的提高，并克服 ALD 工艺通常面临的挑战。 我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点： 快速动作下的超高循环寿命 C v 范围从 0.27 至 1.7 指定型号的承温能力高达 392°F (200°C)...

世伟洛克氨取样器可尽可能地减少操作员接触液体和汽化氨的机会，从而使无水氨取样更加安全。它还将一致性引入取样操作，显著加快取样过程，无需在设施内运输氨样本。 无水氨用于生产化肥、塑料、纺织品、石油等。为避免储罐内氨出现应力腐蚀开裂和产品质量问题，必须定期对产品取样以验证含水量为 0.2% 至 0.5%。 世伟洛克的闭环氨取样装置旨在消除传统氨样本采集方法固有的挑战。世伟洛克氨取样器具有以下特点： 封闭样本夹具： 我们的氨取样器具有封闭的玻璃罩固定装置，可通过限制操作人员暴露和影响环境的过量排放来提高安全性。该设计无需大量操作人员 PPE。玻璃前端使操作人员能够直观地监控样品状况。此外，还提供单夹...