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隔膜密封阀尽可能地减少了截流区，并通过完全可清扫流道优化吹扫，从而提高了系统效率，同时实现了有效的流量关断。多种尺寸、材料和配置（包括原子层沉积、热浸没型和无弹簧）可满足高纯和超高纯应用的系统要求。 隔膜密封阀 我们的隔膜密封阀具有多种尺寸、材料和配置，可满足流量系数从 0.20 至 13 以及工作压力高达 3500 psig (241 bar) 的高纯和超高纯 UHP) 应用的需求。 隔膜密封阀可有效关断您的系统流量，并拥有较长的循环寿命。世伟洛克的隔膜密封阀产品包括原子层沉积 (ALD) 隔膜密封阀、适合高流量、高性能和模块化气体系统的无弹簧隔膜密封阀、热浸没型无弹簧隔膜密封阀以及超...

ALD20 UHP 阀门为半导体生产提供了新的可能性 由于具有更大的流量、更高的热稳定性和极高的精度，先进的阀门使芯片制造商能够对新的前体进行实验。 俄亥俄州索伦市 — （2020 年 2 月 1 日） — 流体系统产品、组件和相关服务的领先解决方案提供商世伟洛克宣布发布一款适用于高流量应用的新型超高纯 (UHP) 阀门 ALD20。自将原子层沉积 (ALD) 阀门技术推向市场以来，世伟洛克一直与半导体工具制造商和芯片制造商合作以提供所需的性能，从而与快速变化的工艺要求保持同步。新型 ALD20 阀门是这种合作的最新成果，因此，具有远见卓识的工艺设计者可以灵活地对低蒸气压化学材料进行试验，...

一种全新的阀门。该阀可能改变半导体制造的三大原因。 Matt Ferraro 打入半导体市场绝非易事。为了在涉及昂贵的材料、腐蚀性气体以及极端温度的高度复杂工艺中保持非常高的精度，半导体晶片制造商备处于持续的压力之下。该行业容不下犯半点错误，尤其是考虑到保持竞争优势和跟上不断发展的技术需求的巨大压力。 半导体工具 OEM 面临着同样巨大的压力。他们持续致力于提高其工具效率并使其产品设计与竞争对手的产品设计具有差异化，从而使客户可以在不牺牲质量的前提下而在更短的时间内生产更多的产品。或许更重要的是，他们还必须不断展望未来，以寻求可使制造商在争相引进下一代芯片技术时能够优化其工艺和输入...

半导体制造的过去、现在与未来：与行业顾问卡尔怀特(Carl White)的互动问答 摩尔定律是英特尔联合创始人 戈登 E.摩尔(Gordon E. Moore) 于 1965 年首次提出的概念，他预测集成电路（或微芯片）上的晶体管数量每两年便要增加一倍，而计算成本却要降低高达一半，从而使计算能力呈指数增长。半导体行业一直在努力跟上这一范式，但是要在更小的空间中不断提供更高的处理能力却并非易事，尤其是当竞争对手均朝着相同的目标迈进并且消费者对先进技术的需求持续不变的时候。 很大程度上应归因于摩尔定律，“我感到一种渴望-对速度的渴望！”这句话更像是对半导体行业日常的描述，而不只是...

新款世伟洛克 ® ALD7 超高纯阀门使半导体制造商能够提高芯片产量 先进的隔膜阀提供了精确的进料、快速执行和上亿次生产循环的一致性能。 俄亥俄州索伦市（2022 年 8 月 2 日）— 流体系统产品、组件及相关服务的领先供应商世伟洛克日前宣布推出世伟洛克 ® ALD7 超高纯(UHP)隔膜阀 — 该产品能够为半导体制造商提供提高芯片产量必需的一致性和长使用寿命。与世伟洛克目前顶级的 ALD6 阀门相比，ALD7 提供了更好的流量一致性、流通能力和执行机构速度。它还提供了必要的高温下性能，使芯片制造商能够克服当前制造工艺的限制，满足需求。 ALD7 阀门可以被集成到新设备或原有设备中...