用于原子层沉积工艺的世伟洛克®超高纯隔膜阀（ALD7 系列）
世伟洛克 ALD7 超高纯阀提供了在新的或已有的半导体制造设备中，帮助尽可能地提高芯片产量所必需的流量一致性和流通能力、执行机构速度、温度等级和洁净度。
索取 ALD7 阀门信息用于原子层沉积 (ALD) 处理的世伟洛克® ALD7 超高纯隔膜阀通过实现流量一致性和流通能力、执行速度以及克服生产工艺限制所必需的高温性能，使半导体工具制造商和芯片制造厂能够提高可行芯片良率并增强盈利能力。它能在超高的循环寿命内，在阀门与阀门、进料与进料、腔室与腔室之间提供一致的性能。
世伟洛克 ALD7 阀门：
- 即使在要求苛刻的应用中，也能在数百万次循环过程中提供快速、精确的进料，并具有响应时间低至 5 ms 的增强型执行机构技术
- 阀体由专有的超高纯世伟洛克 316L VIM-VAR 不锈钢构成，具备抵抗腐蚀性气体的能力
- 可加热至 200°C，同时将气动执行机构的最高工作温度保持在 150°C 以下
- 流量系数 (Cv) 高达 0.7（可提供流量系数为 0.5-0.7 Cv 的可选定制（工厂设置）版本）
- 保持与世伟洛克行业标准 ALD 阀相同的占用空间，并具有集成式热隔离器，尽可能地利用反应室附近的有限空间
ALD7 阀门规格
| 工作压力 | 真空至 145 psig (10.0 bar) |
| 爆破压力 | >3200 psig (220 bar) |
| 执行压力 | 60 至 120 psig（4.1 至 8.27 bar） |
| 温度额定值 | 标准阀体 32°F (0°C) 至 392°F (200°C) |
| 流量系数 | 标准 0.7 Cv（出厂设置） |
| 阀体材料 | 316L VIM-VAR 不锈钢 |
| 隔膜材料 | 钴基超级合金 |
| 端接 | 类型：VCR® 接头，卡套管对焊，1.5 in. 模块化表面安装高流量 C 型密封 |
是否对 ALD 阀门有任何疑问？
ALD7 系列阀门目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及配件。
原子层沉积 (ALD) 隔膜阀，高速执行下的超高循环寿命 ，Cv 0.27 到 0.62，耐热执行器, 耐温高达 200°C（392°F），电子执行器位置传感选购件，合采用 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用场合，VCR®, 卡套管对焊和模块化表面安装端接
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
최적의 합금으로 반도체 수율 향상
반도체 제조업체가 어떻게 하면 핵심 유체 시스템 부품에 적절한 합금을 선택하여 종합적인 생산 수율과 장기 수익성을 높일 수 있는지 알아보십시오.
Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.
광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례
로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.
첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.