世伟洛克®超高纯隔膜阀（ALD7 系列）
世伟洛克 ALD7 超高纯阀提供了在新的或已有的半导体制造设备中，帮助尽可能地提高芯片产量所必需的流量一致性和流通能力、执行机构速度、温度等级和洁净度。
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一致性能具有革命性的
世伟洛克 ALD7 超高纯隔膜阀是世伟洛克五十多年来支持半导体制造商和设备制造商所取得的原子层沉积 (ALD) 阀门技术的创新之作。这种高性能的半导体阀门使设备制造商和芯片制造厂家能够通过实现流量一致性、流通能力、执行机构速度和高温下的性能来克服当前生产工艺的限制，增加芯片良率，从而提高利润率。
为毫不妥协的精度而打造
ALD7具有更快的响应时间、高温下的热稳定性和更强的耐腐蚀性，在超高的循环寿命中，提供不同阀门间、不同进料间、不同腔室间的一致性能。
- 即使在非常苛刻的原子沉积应用中，ALD7 也能在数百万次的循环过程中提供精确的进料
- 提高的执行机构技术使该半导体阀的运行速度比行业标准技术快，响应时间低至 5 ms
- 阀体可加热至 200°C，同时保持气动执行机构低于最大工作温度 150°C
- ALD7阀体由世伟洛克专有的超高纯 316L VIM-VAR 不锈钢构成，具备抵抗腐蚀性气体的能力
更高的性能。更少的返工。
与现有的半导体阀相比，ALD7 可提供更好的流通能力，但安装空间保持不变。其紧凑的设计有助于半导体制造商在不进行重大工艺改变的情况下，提升原有设备的生产力。
- 标准 ALD7 可提供高达 0.7 的流量系数 (Cv)，并实现从一个腔室到另一个腔室的精确、可重复的进料；提供可选的定制（工厂设置）版本，流量系数为 –0.7 Cv
- ALD7 保持了与世伟洛克符合行业标准的 ALD 阀相同的 1.5-in. 占用空间
- 该阀门拥有一个集成式热隔离器，缩短了阀门的侧面轮廓，使系统设计者能够尽可能地利用反应腔附近的有限空间
规格
| 工作压力 | 真空至 145 psig (10.0 bar) |
| 爆破压力 | >3200 psig (220 bar) |
| 执行压力 | 60 至 120 psig（4.1 至 8.27 bar） |
| 温度额定值 | 标准阀体从 32°F (0°C) 到 392°F (200°C) |
| 流量系数 | 标准 0.7 Cv（出厂设置） |
| 阀体材料 | 316L VIM-VAR 不锈钢 |
| 隔膜材料 | 钴基超级合金 |
| 端接 | 类型: VCR® 接头，卡套管对焊，1.5 英寸模块化表面安装高流量 C 型密封 |
ALD7 系列阀门目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及附件。
原子层沉积 (ALD) 隔膜阀，高速执行下的超高循环寿命 ，Cv 0.27 到 0.62，耐热执行器, 耐温高达 200°C（392°F），电子执行器位置传感选购件，合采用 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用场合，VCR®, 卡套管对焊和模块化表面安装端接
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