世伟洛克®高流量应用型超高纯阀（ALD20 系列）
世伟洛克 ALD20 超高纯阀对比其他原子层沉积 (ALD) 阀具有更高的流量，使用户能够在其 ALD 工艺中试验具有挑战性的低蒸汽压前导气体。
索取更多信息为未来赋能
ALD20 提供了客户对世伟洛克超高纯 ALD 阀所期望的可靠性和性能，同时还带来了先前无法实现的温度稳定性和流量可能性。这款阀门使制造商能够试验不同的工艺和低蒸汽压化学品，以实现当今和未来开发先进技术所需的均匀气体沉积。
更高的流量。尽可能少的占用空间。
新型 ALD20 超高纯阀专为突破原子层沉积阀技术的极限而设计，从而使流量达到使用现有 ALD 阀所能达到的两到三倍。该阀门使半导体芯片制造商不仅具有增加产量和提高效率的潜力，而且还可以在不显著改变工艺的情况下做到这一点。
- ALD20 可以在与现有 ALD 阀相同的占用空间 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，从而无需改装现有设备即可实现更高的性能
- 第二款标准 ALD20 阀类型具有稍大的占用空间宽度 (1.75 in.)，可产生更高的 1.7 流量系数 — 这也是超高循环寿命超高纯阀目前所能提供的最高流量
- 还可提供定制的流量系数
毫不妥协的一致性
ALD20 的设计能够在超高循环寿命中促进一致的操作性能得益于以下几项主要特点：
- 整个阀门和执行机构均可完全浸入 50°F (10°C) 至 392°F (200°C) 的气箱中，从而无需在加热期间隔离执行机构。因此，低蒸汽压气体保持在有利于理想流量的温度下，沉积一致性得以改善
- 316L VIM-VAR 不锈钢或合金 22 阀体材料选项具有增强的耐腐蚀性，可承受腐蚀性日趋严重的介质
- 拥有 5 μin. Ra 表面处理的高度抛光型波纹管支持在超高循环寿命的工艺中进行清洁操作，以实现工艺完整性
- 气动执行机构可实现高速 (<10 ms) 且可重复的启动，以实现精确而一致的流量，从而满足计量要求。
规格
| 工作压力 | 真空至 20 psig (1.4 bar) |
| 爆裂压力 | >3200 psig (220 bar) |
| 执行压力 | 70 至 90 psig（4.8 至 6.2 bar） |
| 温度 | 50° 至 392°F（10° 至 200°C） |
| 流量系数 (Cv) | 1.2 (MSM) 1.7（直通型） |
| 阀体材料 | 316L VIM-VAR 或合金 22 |
| 波纹管材料 | 合金 22（5 μin. Ra 表面处理） |
| 端接 | |
| 类型（尺寸） | 内螺纹 VCR® 接头 (1/2 in.) 可旋转外螺纹 VCR 接头 (1/2 in.) 卡套管对焊，长度 0.50 in. (1/2 in. x 0.049 in.) 模块化表面安装高流量 C 型密封 (1.5 in.) |
ALD20 系列阀门目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及附件。
原子层沉积 (ALD) 隔膜阀，高速执行下的超高循环寿命 ，Cv 0.27 到 0.62，耐热执行器, 耐温高达 200°C（392°F），电子执行器位置传感选购件，合采用 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用场合，VCR®, 卡套管对焊和模块化表面安装端接
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
利用优化合金提高半导体良品率
了解半导体制造商如何通过为关键流体系统组件选择合适的金属材料，提高端到端良品率并提高长期盈利能力。
问答：半导体制造的过去、现在与未来
了解半导体OEM设备商、微芯片制造商与流体系统解决方案提供商之间的协作如何使半导体市场在数十年来能够满足摩尔定律的要求以及未来的发展方向。
光纤设备制造商利用定制解决方案提高效率
自 20 世纪 80 年代以来，Rosendahl Nextrom 便依靠世伟洛克来推动其业务的发展。了解有关使该公司超越其竞争对手并保持行业领先地位的解决方案的更多信息。
适合于科学前沿的可靠流体系统解决方案
了解为何芬兰稀释制冷机制造商 Bluefors 信赖世伟洛克提供的有助于实现量子计算、实验物理学等领域的流体系统组件和解决方案。