Swagelok® Ultrahochreine Membranventile für die Atomlagenabscheidung der Serie ALD7
Das ultrahochreine ALD7-Ventil von Swagelok sorgt dafür, dass das Durchflussverhalten, die Durchflusskapazität, die Betätigungsgeschwindigkeit, die Temperaturwerte sowie die Reinheit sichergestellt sind, die zur Maximierung des Chip-Durchsatzes in neuen oder existierenden Halbleiterproduktionsanlagen erforderlich sind.
Informationen zu ALD7-Ventilen anfordernDas ultrahochreine Swagelok® Membranventil ALD7 für die Atomlagenabscheidung (ALD) ermöglicht es Herstellern von Halbleiter-Fertigungsanlagen sowie Chipherstellern, die Chipausbeute zu erhöhen und die Rentabilität zu steigern. Für höchste Prozessanforderungen konzipiert, überzeugt das ALD 7-Ventil durch optimales Durchflussverhalten und eine optimale Durchflusskapazität, eine hohe Betätigungsgeschwindigkeit sowie Leistungsstärke in hohen Temperaturbereichen. Das ALD 7-Ventil bietet eine konstant hohe Leistung von Ventil zu Ventil, Dosis zu Dosis und Kammer zu Kammer bei maximaler Lebensdauer.
Vorteile des ALD 7-Ventils von Swagelok:
- Schnelle und präzise Dosierung über Millionen von Produktionszyklen auch in anspruchsvollsten Anwendungen und verbesserte Stellantriebstechnologie mit einer Ansprechzeit von nur 5 ms
- Beständigkeit gegen korrosive Gase dank Swagelok-Ventilkörper aus Edelstahl 316L VIM-VAR für ultrahochreine Anwendungen
- Aufheizbar bis 200 °C, solange der pneumatische Antrieb unter der maximalen Betriebstemperatur von 150 °C bleibt
- Bietet einen Durchflusskoeffizient (Cv) von bis zu 0,7; optional sind kundenspezifische Ausführungen (werkseitig eingestellt) mit Durchflusskoeffizienten von 0,5 bis 0,7 Cv erhältlich
- Gleicher Platzbedarf wie ALD-Ventile nach Industriestandard von Swagelok und integrierter Wärmeisolator zur maximalen Ausnutzung des begrenzten Platzes nahe der Reaktionskammer
ALD7-Ventile – Spezifikationen
| Betriebsdruck | Vakuum bis 10,0 bar (145 psig) |
| Berstdruck | >220 bar (3.200 psig) |
| Betätigungsdruck | 4,1 bis 8,27 bar (60 bis 120 psig) |
| Auslegungstemperatur | Standardventilkörper von 0 °C (32 °F) bis 200 °C (392 °F) |
| Durchflusskoeffizient | Standardmäßig 0,7 Cv (werkseitig) |
| Körperwerkstoffe | Edelstahl 316L VIM-VAR |
| Membranwerkstoff | Superlegierung auf Kobaltbasis |
| Endanschlüsse | Typ: VCR®-Verbindungen, 1,5 Zoll, Stumpfschweißfitting, modulare Konfiguration mit C-Dichtung für hohe Durchflusskapazitäten |
Sie haben Fragen zu ALD-Ventilen?
Каталоги клапанов серии ALD7
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
利用优化的合金提高半导体制造良率
了解半导体制造商如何通过为关键流体系统组件选择合适的金属材料，提高端到端制造良率并提高长期盈利能力。
问答：半导体制造的过去、现在与未来
了解半导体OEM设备商、微芯片制造商与流体系统解决方案提供商之间的协作如何使半导体市场在数十年来能够满足摩尔定律的要求以及未来的发展方向。
光纤设备制造商利用定制解决方案提高效率
自 20 世纪 80 年代以来，Rosendahl Nextrom 便与世伟洛克合作推动其业务的发展。了解有关使该公司超越其竞争对手并保持行业领先地位的解决方案的更多信息。
适合于科学前沿的可靠流体系统解决方案
了解为何芬兰稀释制冷机制造商 Bluefors 信赖世伟洛克提供的流体系统部件和解决方案，来助力于量子计算、实验物理学等领域。